第497章 荒謬的起訴(第1/3 頁)

郝強來到EbL光刻機實驗室，指導員工研發7nm EbL光刻機。

專案組某一位技術專家看到董事長到來，眼前一亮，上前跟他彙報：“董事長，您來了。”

“嗯，現在你們碰到什麼較難解決的技術問題？”郝強直入話題。

“我自己這邊統計了一下，目前有三個最難解決的難題。”這位技術專家娓娓道來，“第一點，解析度與精度。

7nm級別的光刻需要更高的解析度和精確度，以確保電路的功能和效能，製造更小的特徵需要克服物理和化學限制。”

7nm比14nm，也就意味著使用更小的“畫筆”。

設計同樣的晶片，所使用的畫板（晶圓面積）就更小，即晶片更小，往著更精密的方向發展。

專家看到郝強點頭，接著說道：“第二點，圖案轉移與對準。”

在7nm工藝中，圖案轉移的準確性至關重要，任何微小的對準誤差都可能導致電路功能失效。

精確的對準和圖案重疊技術是研發中的難點。

公司在研發EbL光刻機時，已經解決了這個主要問題。

當然，隨著技術的提升，要求更高。

原來的14nm EbL光刻機，大部分部件是可以應用在7nm EbL光刻機上面的，但有些零部件需要換成更先進的。

郝強傾聽完技術專家的訴說後，耐心地逐一進行講解。

在一般情況下，技術人員所面臨的問題通常不需要他親自出面解決。

然而，當技術專家們碰到無法克服的難題時，往往是團隊也難以應對的複雜問題，這時郝強便不得不親自出馬。

否則，問題的解決將會拖延很長時間，甚至可能導致整個專案的進度受到影響。

集團的員工們都知道董事長工作繁忙，因此很少有人會貿然跑到他的辦公室尋求幫助。

然而，郝強此時來到實驗室，明顯表明了他是為了專門解決技術問題而來。

在實驗室的氛圍中，濃厚的科研氣息瀰漫開來，裝置的嗡鳴聲和團隊成員的討論聲交織在一起，創造出一種緊張而充滿活力的工作環境。

技術專家剛才看到郝強的身影時，心中不禁生出一絲欣喜。

他原本打算慢慢與團隊一道解決這些技術難題，但現在看來，郝強的到來無疑是一個轉機。

作為在公司內最受尊敬的領導者，郝強的能力一直是個迷。

他的每一次出手，往往都能快速而有效地找到問題的癥結所在，給出最佳的解決方案。

在這個時候，最好的答案似乎恰恰就在郝強身上。

他的到來，無疑為團隊注入了強心劑，激發了大家計程車氣。

僅僅一會兒後，這位技術專家聽完郝強的講解，他就梳理清晰解決方案。

接著，

郝強巡查7EbL光刻機的研發進展。

未來科技集團的光刻機一直以來都籠罩在神秘的面紗之下，外界對其具體型別和技術細節知之甚少。

除了晶片生產部門和研發團隊的核心人員之外，集團內其他部門的員工也對這具體技術並不知。

未來科技集團以14奈米工藝製程晶片起步，迅速引起了行業內外的震驚與關注。

這意味著其光刻機具備巨大的潛力，可能在不久的將來實現更先進工藝製程晶片的量產。

這種潛力讓競爭對手們心生忌憚，特別是行業巨頭ASLm及其他同行，紛紛對未來科技集團的動向感到驚恐。

更令人費解的是，未來科技集團並不打算出售其光刻機，也不透露任何具體資訊。

這種低調而神秘的姿態使得外界的猜測和關注愈發濃厚。

許多人開始揣測未來科技集團是否在醞釀一場技術革命，或者在悄然佈局一個全新的市場格局。

為了搞清楚這件事，也關乎企業生存，這些競爭對手在過去的時間裡想方設法獲得未來科技集團的光刻機技術。

拿不到，自然就想破壞。

兩天後，

2月1日的早上。

ASLm公司突然在輪敦國際仲裁院（LcAI）對未來科技集團提起訴訟，指控其涉嫌竊取ASLm的EUV光刻機專利技術。

出人意料的是，LcAI竟然迅速受理了這一案件。

這一舉動引發了業界的廣泛關注。

在樺國，法院收到起訴狀後